【行业洞察】国产光刻胶研发情况
2022-05-12
来源：融中研究 作者：融中研究
19世纪50年代，仙童半导体公司发明了光刻技术，极大地推动了半导体技术革命。随着时代发展，芯片的制程沿着摩尔定律不断进步，光刻技术也随之发展。光刻胶是光刻工艺的关键材料。目前先进光刻胶技术基本由国际供应商掌握，国产自研光刻胶是解决芯片“卡脖子”技术瓶颈、突破芯片限制的重要国家砝码，在国家层面和资本层面均受到大力扶持。
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